在单晶硅拉晶和机械加工过程中，会产生各种不能直接用于后道生产过程的硅料，这部分包括单晶边皮，头尾，反切棒等，需要经过清洗后重新投炉使用，这部分硅料通常被称为回用料或者循环料。循环料的表面沾污有切割硅粉，环境灰尘，水渍油污，有的表面有轻微氧化。产业里硅料的清洗主要包括预清洗，表面腐蚀两步。预清洗主要是用纯水冲刷+毛刷滚刷的方法洗去表面的硅粉等颗粒物。硅的表面湿法腐蚀溶液有很多种，主要原...
我们知道，硅基半导体的原料是高纯多晶硅。高纯多晶硅一度是我国卡脖子产品，即使现在，我国电子级多晶硅仍然在赶超国外先进企业的征程中。而高纯多晶硅的原料是工业硅，那么工业硅是从哪里来的呢？工业硅，也叫做金属硅。生产是以优质硅石矿和碳质还原剂（木炭、精煤、石油焦等）以及疏松剂（木片、木块、玉米芯等）为原料，在矿热电炉内连续进行的电热化学反应。 生产工业硅的炉内总反应式可以写成：SiO2+2C...
半导体和光伏应用的多晶硅料主要是西门子法生产的，产出的棒状多晶硅需要破碎成合适的尺寸才可以装入坩埚和石英加料筒。 拉晶过程中产生边皮，头尾也都需要经过破碎成合适的尺寸才方便装料。尤其是石英加料筒，对装料的尺寸有很高的要求。光伏行业常用的复投料技术标准有5-50mm等。硅料的破碎技术主要有人工破碎，颚式机械破碎，加热水冷破碎等。人工破碎主要使用硬质合金锤，如碳化钨材质等。...
硅片从单晶硅棒拉制完成经历了切片、研磨、抛光等加工工序，中间接触了抛光剂、研磨料等各种化学试剂，同时还受到了微粒的污染，因此最后需要将这些杂质清除干净。几乎所有的工作环境和工艺操作都可能造成硅片表面的沾污，所以现代半导体器件生产普遍采用超净车间或超净工作台，并采用超纯或高纯化学试剂或高纯水，对硅片、金属材料、生产用具等进行严格的化学清洗。硅片表面沾污的杂质是多种多样的，归纳起来，可分...
一、原理在硅制造的过程中，硅料表面的氧化物、油脂、铁、砷等杂质会对硅片的性能造成非常大的影响，因此必须对硅料进行清洗。硅料清洗的原理主要是通过各种物理和化学方法去除杂质和污染物，从而提高硅片的质量。物理方法：1.机械清洗：通过在硅料表面刮刀、刷子、砂纸等物理工具的作用下，去除硅料表面的污染物，是硅料清洗中最常用的方法之一。2.超声波清洗：利用超声波的震荡，将硅料表面的污染物震动掉落，是...
超声波清洗机的工作原理主要基于超声波的物理特性，以下是详细介绍：超声波发生器产生高频电信号，这些信号被换能器转换成机械振动，即超声波。超声波在清洗液中传播，产生微小的气泡，这些气泡在声波的作用下振动，当气泡达到一定大小时突然闭合，产生强大的冲击波，从而有效地去除物体表面的污垢。超声波的空化效应对污物有显著的清洁作用，空化气泡的形成和破裂产生的能量能够破坏不溶性污物，并使污物分散于清洗液...
随着全自动清洗机的普及,越来越多的企业开始使用这种设备。但是,由于全自动清洗机的操作方法和常规清洗机有所不同,很多人都不知道该如何正确使用这种设备。1：全自动清洗机设备的基本知识全自动清洗机是一种自动化处理污水的设备，它能够有效去除污水中的悬浮物、沉淀物和有机物，同时能够对水质进行净化处理。全自动清洗机的工作原理是将污水中的悬浮物和沉淀物通过收集池或沉淀池的方式进行分离，然后将污水中的有机物...
